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拓荆科技:PECVD龙头看上去很美

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发表于 2022-6-8 13:39:56 | 显示全部楼层 |阅读模式
https://baijiahao.baidu.com/s?id=1733349502105575018&wfr=spider&for=pc

第一财经

拓荆科技(688072.SH)自4月20日上市以来股价一路高歌猛进,其在PECVD国产化领域的稀缺性与巨大替代空间无疑是主要看点。


PECVD,即等离子体增强化学气相沉积设备,是薄膜沉积设备的一种。薄膜沉积设备是集成电路前道生产工艺中的三大核心设备之一,其投资规模占设备总投资的20%,晶圆制造设备总投资的25%,在半导体设备中价值量仅次于刻蚀机。


目前国内能够量产集成电路PECVD的厂商仅拓荆科技一家。“拓荆科技今年的营收和利润能够起量,我们是看好的。”某券商电子行业首席分析师告诉第一财经,“目标市值约250亿元。”


而这位科创板新贵背后,还有国家大基金、国投上海和中微公司(688012.SH)的身影。拓荆科技无控股股东和实际控制人,第一大股东为国家集成电路基金,持股19.86%;国投上海持股13.68%;中微公司目前持有拓荆科技1062.2547万股,占其股权比例为8.40%。


唯一能量产PECVD的本土设备厂商


薄膜沉积是指在硅片表面按照一定顺序,生长出半导体、绝缘介质和导电层等不同成分的膜层的工艺。有多种技术可以将需要的膜层沉积到晶圆的表面,其中比较重要的有化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)和原子层沉积(ALD)。薄膜沉积设备主要负责各个步骤当中的介质层与金属层的沉积,在芯片完成制造、封测等工序后会留存在芯片中,其技术参数直接影响芯片性能。


根据Maximize Market Research数据统计,2017-2019年全球半导体薄膜沉积设备市场规模分别为125亿、145亿和155亿美元,2020年扩大至约172亿美元,年复合增长率(CAGR)为11.2%。该机构预计,2025年,全球半导体薄膜沉积设备市场规模将扩大至340亿美元,保持年复合14.6%的增长速度。


国内半导体设备市场约占全球市场的26.29%,东北证券由此测算,2020年国内薄膜沉积设备市场规模约为45.22亿美元。


从增速来看,CVD设备2011-2021年复合增速为13.41%,仅次于干法刻蚀设备。常用CVD设备包括PECVD、SACVD、APCVD、LPCVD等,适用于不同工艺节点对膜质量、厚度以及孔隙沟槽填充能力等的不同要求。




目前国内能够量产集成电路PECVD的厂商仅拓荆科技一家,这也是其稀缺性的体现。


国内北方华创(002371.SZ)和中微公司也有薄膜沉积设备产品,但前者的PECVD设备主要应用于光伏和LED领域,后者主要聚焦MOCVD,应用于LED领域,因此拓荆科技的PECVD不与北方华创、中微公司构成直接竞争关系,其主要竞争对手都是国际厂商,产品总体性能和关键性能参数已达到国际同类设备水平。


在CVD市场中,应用材料(AMAT)全球占比约为30%,连同泛林半导体(Lam)的21%和TEL的19%,三大厂商占据了全球70%的市场份额。


目前,拓荆科技已形成16种不同型号的PECVD设备,覆盖180-14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM及64/128层FLASH制造工艺需求,客户包括中芯国际、华虹集团、长江存储、重庆万国半导体科技有限公司等。


此外,拓荆科技已推出多款不同工艺的SACVD设备,可沉积BPSG、SAF材料薄膜,能适配12英寸40/28nm以及8英寸90nm以上的逻辑芯片制造工艺需求,是国内唯一一家产业化应用的集成电路SACVD设备厂商。


在集成电路ALD设备领域,拓荆科技也积累了多项核心技术,目前已适配55-14nm逻辑芯片制造工艺需求,可为晶圆制造客户提供量产的SiO2工艺型号PE-ALD设备,与北方华创的Thermal ALD设备错位竞争。




产品国内市占率有逾10倍提升空间


根据拓荆科技招股书引用的Gartner数据,在全球薄膜沉积设备中,PECVD是占比最高的设备类型,占整体薄膜沉积设备市场的33%;其次为溅射PVD设备,占比19%;ALD设备是第三大细分市场,占据薄膜沉积设备市场的11%;SACVD是新兴的设备类型,属于其他薄膜沉积设备类目下的产品,占比较小。


东北证券测算,国内PECVD的市场规模约15亿美元,2021年拓荆科技PECVD营收为6.75亿元人民币,国内市占率6.96%,仍有较大提升空间;而据拓荆科技招股书,ALD设备和SACVD设备2020年国内市场空间分别为32.33亿、8.82亿元,拓荆2021年ALD设备和SACVD设备营收分别为0.41亿、0.29亿元,国内市占率分别为1.27%、3.25%。




根据中国国际招投标网公布的信息,长江存储、上海华力、华虹无锡、上海积塔、中芯绍兴、合肥晶合等中国本土晶圆厂正在加大设备采购力度,将带动半导体薄膜沉积设备的需求增长。


第一财经在此前的调研中发现,本土晶圆厂更倾向于采购国产设备,国内半导体设备厂商基本不缺订单,重点在于产能与交付。


截至2021年9月,拓荆科技研发的PECVD、ALD及SACVD设备系列化产品已累计发货超150台。其中,PECVD设备是拓荆科技的主要收入来源,占比近九成。




近四年拓荆科技的销售额持续提升,毛利率水平也上升至45.55%,PECVD设备毛利率由2020年的35.49%上升至43.31%。这一毛利率水平已接近主要竞争对手应材、泛林半导体、先晶半导体2020年的毛利率水平。






多家机构认为,拓荆科技的ALD设备和SACVD设备的产线验证持续进行中,有望进一步开拓市场,成为拓荆科技未来新的增长极。


截至2021年9月,拓荆科技已分别通过ICRD和燕东微电子的产线验证销售了一台ALD设备和一台SACVD设备;共计8台ALD、SACVD设备处于产线验证中,其中有三台是首台产品;此外,公司分别与ICRD和浙江创芯集成电路有限公司签署了ALD设备和SACVD设备的正式销售合同,尚未发货。


研发方面,拓荆科技研发投入力度较大,这也是公司业绩亏损的主要原因之一。2018-2021年1-9月,公司研发费用分别为10797.31万、7431.87万、12278.18万和12955.63万元,占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。截至2021年9月,拓荆科技研发人员占比为44.06%。


目前拓荆科技客户主要在国内,其在研产品已发往某国际领先晶圆厂参与其先进制程工艺研发,若进展顺利,将有希望打开海外市场。


本文不构成任何投资建议,投资者据此操作,一切后果自负。市场有风险,投资需谨慎。


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