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薄膜沉积设备

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发表于 2022-6-8 12:39:38 | 显示全部楼层 |阅读模式
PECVD ( Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition )
是指等离子体增强化学的气相沉积法。是生产人造钻石的一种工艺,这种方法有很多优点,比如颜色等级高,成膜质量好等。

设备主要功能是在 将硅片控制到预定温度后,使用射频电磁波作为能量源在硅片上方形成低温等离 子体,通入适当的化学气体,在等离子体的激活下,经一系列化学反应在硅片表 面形成固态薄膜。相比传统的 CVD 设备,PECVD 设备在相对较低的反应温度下 形成高致密度、高性能薄膜,不破坏已有薄膜和已形成的底层电路,实现更快的 薄膜沉积速度,是芯片制造薄膜沉积工艺中运用最广泛的设备种类。

等离子体(plasma)
又叫做电浆,是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,尺度大于德拜长度的宏观电中性电离气体,其运动主要受电磁力支配,并表现出显著的集体行为。它广泛存在于宇宙中,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。等离子体是一种很好的导电体,利用经过巧妙设计的磁场可以捕捉、移动和加速等离子体。等离子体物理的发展为材料、能源、信息、环境空间、空间物理、地球物理等科学的进一步发展提供了新的技术和工艺。

等离子体是不同于固体、液体和气体的物质第四态。物质由分子构成,分子由原子构成,原子由带正电的原子核和围绕它的、带负电的电子构成。当被加热到足够高的温度或其他原因,外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子,就像下课后的学生跑到操场上随意玩耍一样。电子离开原子核,这个过程就叫做“电离”。这时,物质就变成了由带正电的原子核和带负电的电子组成的、一团均匀的“浆糊”,因此人们戏称它为离子浆,这些离子浆中正负电荷总量相等,因此它是近似电中性的,所以就叫等离子体。(物理学用语。由正离子、游离电子组成的物体,不带电,导电性强,强电流通过时,因电磁作用会发生剧烈收缩,而产生几百万度以上的高温。)

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