浸润式光刻机

老牛

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知道光刻机故事的人都清楚，在ASML之前，日本的尼康、佳能才是老大哥。

不过在ARF光刻机时，也就是采用193nm的干式光刻机的时候，发生了分歧，日系厂商认为要继续研发使用波长更短的光源比如165nm，来提高光刻分辨率。

但是165nm波长的光线非常不稳定，研究了几年，大家都没进展

这时台积电的林本坚站了出来，表示以前的光刻机是用空气做介质的。如果采用水为介质，利用水的折射，采用193nm的光源，在水的折射下可以等效于134nm，比165nm的光线分辨率更好，还跳过了165nm这个难搞的光源。

但尼康、佳能不信，打算一条道走到黑，继续研究165nm光源，不用水为介质。

而ASML还是小厂，就打算搏一搏，说不定单车变摩托了呢？于是ASML与台积电合作，制造以水为介质的浸润式光刻机。

这一搏就成了ASML的翻身之作，第一台浸润式光刻机ARFi制造出来，采用193nm波长，但等效于134nm，马上投入台积电的生产线上，效果非常好